地下日 2010.06.16

　　请求人 马来西亚文科年夜学

　　地点 马来西亚槟城

　　阐明了一种正在无电电镀进程以前用于不成电镀的基底的涂层制剂。所述涂层制剂包罗多性能基单体、和二苯甲烷–4,4–二异氰酸酯(MDI)的夹杂物，所述多性能基单体含有烯丙基、烃基、乙烯基、醚基、酯基、甲基丙烯酸酯基、丙烯酸酯基、邻苯二酸盐基或其组合物，但没有包罗含有羟基的多性能单体。依据本创造，所述多性能基单体的比例为少于或等于MDI。所述涂层制剂正在用于一不成电镀的基底前正在一真空室内夹杂30 min。